Спросите цитату
Russian
Главная страница ПродукцияБрызгать целиникель 99,95%/99,99% брызгая размер подгонянный высокой плотностью 3Н5~4Н цели
99.95% / 99.99% Nickel Sputtering Target High Density Customized Size 3N5~4N
99.95% / 99.99% Nickel Sputtering Target High Density Customized Size 3N5~4N 99.95% / 99.99% Nickel Sputtering Target High Density Customized Size 3N5~4N

никель 99,95%/99,99% брызгая размер подгонянный высокой плотностью 3Н5~4Н цели

Подробная информация о продукте:
Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: JINXING
Сертификация: ISO 9001
Номер модели: Плита никеля брызгая цель
Оплата и доставка Условия:
Количество мин заказа: 1 кг
Цена: 20～150USD/kg
Упаковывая детали: ФАНЕРА СЛУЧАЙ
Время доставки: 10~25 дней работы
Условия оплаты: L/C, D/A, D/P, T/T, западное соединение
Поставка способности: 100000кгс/М
Контакт

Подробная информация
Материал: Плита никеля брызгая цель Процесс: CIP, отжимать HIP, плавя
Размер: Подгонянный применение: система покрытия pvd
Форма: Зернистый, цилиндр, части, листы Размер зерна: Точный размер зерна, хорошая плотность
Очищенность:: 99,95%, 99,99%, 99,999% Плотность: 8.9g/cm3
Высокий свет:

Никель брызгая цель

,

3N5 брызгая цель

,

Высокая плотность брызгая цель

Характер продукции

Плита никеля брызгая особая чистота 99,95% цели, 99,99%,

 

Материал особой чистоты, ультравысокий материал очищенности, материал особой чистоты полупроводника


Мир материалов снабжает высокочистые материалы от 4N 7N: по мере того как основные материалы индустрии и электронной промышленности полупроводника, высокочистые материалы широко использованы в различных промышленных полях, включая крышки поля люминисцентные, thermoelectronics, электроника, информация, инфракрасный, фотоэлементы, высокопроизводительные сплавы, matech etc. Jinxing поставляют полный диапасон ультравысоких материалов очищенности для того чтобы отвечать потребностямы отечественных и международных клиентов. Мы не только обеспечиваем высокочистое сырье, но также можем сделать различное высокочистое сырье для клиентов, как ультравысокий магнетрон металла очищенности брызгая цель, магнетрон фотоэлемента брызгая цель, солнечный материал для покрытий испарения фильма, электронная высокочистая заготовка для проволоки, прокладка, порошок…

 


Магнетрон брызгая материал цели формируя метод: материальный формируя метод выбран согласно эксплуатационным характеристикам продукта и различным требованиям клиентов. Вообще, когда точка плавления материалов низка, необходимо использовать вакуум плавя, бросая, куя и свертывая для того чтобы исключить пористость. Конечно, эффективная термическая обработка необходима для того чтобы уточнить равномерный материал зерна. Материалы с высокой точкой плавления (или материалы с высокой хрупкостью) сформированы горячий отжимать или горячий изостатический отжимать, и некоторым сформированы холодный изостатический отжимать и после этого спечены. Все виды брызгать материалы цели обеспеченные нашей компанией имеют свойственную технологию, высокую плотность, равномерное зерно и длинный срок службы…

 

Плита никеля брызгая цель 99,99%, цель 99,999% брызгать никеля плоскостная

доступный в меняя размерах

 

 
Ранги: Никель брызгая цель
  Очищенность: 99,95%, 99,99%
Никель Цель Sputtreing никеля особой чистоты
Плотность: 8.9g/cm3
Форма: Округлая форма, форма трубки и форма плиты.

 

Размеры:

 

Плита брызгая цели:

 

Толщина: 0,04 до 1,40» (1,0 до 35mm).

Ширина до 20" (50 до 500mm).

Длина: 3,9" до 6,56 фута (100-2000mm)

другие размеры как спрошено.

 

Цилиндр брызгая цели:

 

3,94 Dia. x 1,58» (Dia 100. x 40mm)

2,56 Dia. x 1,58» (Dia 65. x 40mm)

или 63*32mm другие размеры как спрошено.

 

Трубка брызгая цели:

 

2,76 OD x 0,28 ВЕСА x 39,4" l (70 OD x 7 ВЕСОВ x 1000mm l)

3,46 OD x 0,39 ВЕСА x 48,4" l (88 OD x 10 ВЕСОВ x 1230mm l)

другие размеры как спрошено.

 

Область применения брызгать покрытие: Брызгать покрытие широко использован в упаковывая покрытии, покрытии украшения, архитектурноакустическом стеклянном покрытии, покрытии автомобиля стеклянном, покрытии низкой радиации стеклянном, плоском экране, оптической связи/оптически индустрии, индустрии хранения данных, индустрии хранения данных, индустрии хранения магнитных данных, оптически покрытии, поле полупроводника, автоматизации, солнечной энергии, медицинском лечении, фильме самосмазывания, покрытии прибора конденсатора, другом функциональном покрытии, etc. (щелчок для того чтобы вписать детальное введение)

 

 

Тип Применение Главный сплав Запрос
Полупроводник Подготовка веществ активной зоны для интегральных схема Титан W. Вольфрама (WTI), сплав ti, животиков, Al, Cu, etc., с очищенностью больше чем 4N или 5N

 

 

 

Самые высокие технические требования, ультравысокий металл очищенности, размер высокой точности, высокая интеграция

 
Экранный дисплей Брызгать технология обеспечивает единообразие продукции фильма, улучшает урожайность и уменьшает цену Цель ниобия, цель кремния, цель Cr, цель молибдена, MoNb, цель Al, цель алюминиевого сплава, медная цель, цель медного сплава

 

 

 

Высокие технические требования, высокочистые материалы, большая материальная зона и высокая степень единообразия

 
Украсьте Оно использовано для покрывать на поверхности продуктов для того чтобы украсить влияние сопротивления и коррозионной устойчивости носки

 

 

 

 

Цель хромия, цель титана, цирконий (Zr), никель, вольфрам, алюминий титана, CRSI, CrTi, cralzr, цель нержавеющей стали

 

 главным образом использованный для украшения, энергосберегающий, etc
Оборудовать

 

 

 

Усильте поверхность инструментов и прессформы, улучшают срок службы и качество изготовленных частей

 

 Цель TiAl, цель Al Cr, цель Cr, цель ti, олово, tic, Al203, etc Требования к высокой эффективности и длинный срок службы
Солнечное фотовольтайческое Брызганная технология тонкого фильма для изготовления четвертых фотоэлементов тонкого фильма поколения Цель алюминиевой окиси цинка, цель окиси цинка, цель цинка алюминиевая, цель молибдена, цель сульфида кадмия (CD), медный селен галлия индия, etc Широкое применение
Электронные аксессуары

 

 

 

 

Для сопротивления фильма и емкости фильма

 

 Цель NiCr, цель NiCr, цель Si Cr, цель животиков, цель Al NiCr, etc Небольшой размер, хорошая стабильность и небольшой коэффициент температуры сопротивления необходимы для электронных устройств
Информационная память

 

 

 

 

Для делать магнитную память

 

 Основанный Cr, Co основал, основанный Fe, Ni CO основал сплавы Высокая плотность хранения, высокая скорость передачи

никель 99,95%/99,99% брызгая размер подгонянный высокой плотностью 3Н5~4Н цели 0

тег:

Вольфрам брызгая цель

металл брызгая цели

титан брызгает цель

Свяжись с нами

Впишите ваше сообщение

Вы могли бы быть в этих