Молибден тонкого фильма PVD покрывая брызгая цели

Молибден брызгая цель для покрытия тонкого фильма

Характер продукции:

1. Ранг: Mo1, TZM, сплав MoNb.

2. Очищенность: > =99.95%

3. Характеристика:

Точка плавления: 2610°C

Температура кипения: 5560°C

Плотность: 10.2g/cm3

Высококачественный, workability

4. Сертификат: ISO9002

5. Характеристика продукта: Высокая точка плавления, высокая плотность, высокотемпературное сопротивление оксидации, длинный срок службы, сопротивление к корозии.

Точка плавления покрытого молибдена брызгая цель 2610℃ и температура кипения ℃ 5560. И очищенность ее может до 99,95%.

Покрытый молибден брызгая цель имеет много преимущества как высокая точка плавления, высокая физическая сила, высокий модуль эластичности, большая термальная проводимость и коррозионная устойчивость и так далее.

Применение:

· Электронная индустрия как покрытие PCB;

· Индустрия плоского экрана как покрытие LCD;

· Оптически покрытие

· Электронный полупроводник

· Брызгать покрытие материала & вакуума;

· Фильм PVD покрывая etc.

Молибден брызгая изображение цели: